一种局部用温敏型抗菌药缓释剂及其制备方法
- 专利权人:
- 中国人民解放军第二军医大学
- 发明人:
- 侯春林,刘文,魏长征
- 申请号：
- CN201110394438.9
- 公开号：
- CN102441171A
- 申请日:
- 2011.12.02
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及医用生物材料技术领域，近年来局部用抗菌药缓释剂型引起了人们的极大关注，但这些制剂材料均不具备温敏特性，同时存在生物相容性及生物降解性等问题、且此类缓释制备方法复杂。本发明提供了一种局部用的温敏型的抗菌药缓释剂型及其制备方法，该缓释剂是以温敏型高分子材料羟丁基壳聚糖为缓释载体，利用其特有的温敏特性，包埋抗菌药物，制备一种局部用的可注射或植入的温敏型药物缓释制剂。将本发明的缓释剂注射或植入病灶或手术部位，实现局部缓释用药，用于预防或治疗细菌感染。本发明具有可注射温敏性、维持局部有效的药物浓度、良好生物相容性、生物可降解性、不影响伤口愈合等优点。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
