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开放式MRI成像系统用磁体结构
专利权人:
杭州佩伟拓超导磁体技术有限公司
发明人:
沈伟俊
申请号:
CN201920506618.3
公开号:
申请日:
2019.16.04
申请国别(地区):
CN
年份:
2020
代理人:
摘要:
本实用新型涉及一种适合介入式扫描、诊断,治疗、实时监视的开放式MRI成像系统用磁体结构,MRI磁体由多块磁性单元构成有惯通缺口的拱形圆。优点:一是适合介入式诊断,实时监视,如脑手术(脑血管,神经阻断),脑植入治疗;二是磁体短,小;三是外漏磁场低,安装场地要求低,5高斯线:<1米;四是采用了永磁材料结构,系统维护成本低。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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