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Plasma Assisted processes Arc distance
专利权人:
VAPOR TECHNOLOGIES; INC.
发明人:
GOROKHOVSKY, Vladimir,HUMENIK, David,TRUBE, Scott,SULLIVAN, Patrick A.,PETERSON, Nicholas,TAYLOR, Edward,VOLAN, Greg
申请号:
CL2016001093
公开号:
CL2016001093A1
申请日:
2016.05.06
申请国别(地区):
CL
年份:
2016
代理人:
摘要:
A Coating system that includes a vacuum Chamber and a set of coating.The whole set of coating is a Coating that includes a Steam Source, a substrate support to maintain the Substrates to be coated so that the Substrates are placed in front of a Steam Source, a set of Vacuum Cathodic Arc PrimaryA Remote Anode cathode electrically connected to a First Power Source Connected between the CATHODE and the Anode a primary and a secondary Power Source Connected between the CATHODE and the Anode.UN SISTEMA DE REVESTIMIENTO QUE INCLUYE UNA CAMARA DE VACIO Y UN CONJUNTO DE REVESTIMIENTO. EL CONJUNTO DE REVESTIMIENTO TIENE UN CONJUNTO DE REVESTIMIENTO QUE INCLUYE UNA FUENTE DE VAPOR, UN SOPORTE DE SUSTRATO PARA MANTENER LOS SUSTRATOS A REVESTIR DE TAL MANERA QUE LOS SUSTRATOS SE COLOQUEN DELANTE DE LA FUENTE DE VAPOR, UN CONJUNTO DE ARCO CATODICO AL VACIO PRIMARIA, UN ANODO REMOTO ACOPLADO ELECTRICAMENTE AL OBJETIVO DEL CATODO UNA FUENTE DE ALIMENTACION PRIMERA CONECTADA ENTRE EL OBJETIVO DEL CATODO Y EL ANODO PRIMARIO Y UNA FUENTE DE ALIMENTACION SECUNDARIA CONECTADA ENTRE EL OBJETIVO DEL CATODO Y EL ANODO REMOTO.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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