一次曝光的硬X射线光栅干涉仪的成像方法
- 专利权人:
- 合肥工业大学
- 发明人:
- 王志立,刘达林
- 申请号：
- CN201710019792.0
- 公开号：
- CN106618623B
- 申请日:
- 2017.11.01
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一种一次曝光的硬X射线光栅干涉仪的成像方法,其特征包括:1移动任一光栅,将硬X射线光栅干涉仪的工作点固定在光强曲线的左半腰或右半腰位置处;2分别获取背景投影图像和被成像物体的投影图像;3获取归一化的被成像物体的投影图像,并对归一化的投影图像进行取对数处理;4根据取对数处理结果,构建表达式进行一维傅立叶变换;5根据一维傅里叶变换结果,利用一维逆傅里叶变换,分别提取被成像物体的吸收和相移信号。本发明摒弃繁琐的光栅步进扫描,简化硬X射线光栅干涉仪的数据采集流程,对被成像物体进行一次曝光,提高成像效率,降低辐射损伤风险,从而为未来快速、低辐射剂量临床医学成像技术的发展提供新途径。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
