紫外线杀菌装置

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专利权人:

恩普乐股份有限公司

发明人:

森冈心平

申请号：

CN202122609639.8

公开号：

CN216394804U

申请日:

2021.10.28

申请国别(地区):

CN

年份:

2022

代理人:

摘要：

本实用新型涉及紫外线杀菌装置。本实用新型的紫外线杀菌装置具有：用于射出紫外线的多个光源；以及一个或两个以上的漫射部件，配置于多个光源的上部，且用于使从多个光源射出的紫外线漫射。作为杀菌对象的虚拟平面上的紫外线的照度在1mW/cm2～3mW/cm2的范围内，该虚拟平面在相对于漫射部件与所述多个光源相反的一侧，与所述多个光源的发光面间隔开地配置，所述漫射部件使从所述光源射出的光中的、包括沿光轴的光在内的光轴附近的光最多地漫射。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/