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作为杀微生物剂的吡唑-4-基甲酰胺衍生物
- 专利权人:
- 先正达参股股份有限公司
- 发明人:
- D·斯蒂尔利,H·沃尔特
- 申请号：
- CN201280004684.1
- 公开号：
- CN103313972A
- 申请日:
- 2012.01.02
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 张敏
- 摘要：
- 式(I)的化合物以及那些化合物的农艺学上可接受的盐/异构体/结构异构体/立体异构体/非对映异构体/对映异构体/互变异构体以及N-氧化物适合用作杀微生物剂
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其中R1是C1-C4烷基、C1-C4卤烷基或C1-C4烷氧基；R2是C1-C4烷基；R3是氢或卤素；R4是氢、C1-C4烷基或C1-C4卤烷基；R5是氢、卤素或C1-C4烷基；R6是氢、卤素、C1-C4烷基、C2-C6烯基或C3-C6炔基；R7是氢、卤素、C1-C6烷基、C2-C6烯基、C3-C6炔基、C3-C6环烷基-C3-C6炔基、C1-C6卤烷基、C1-C6卤代烷氧基、C2-C6卤代烯基、或C2-C6卤代烯氧基；R8是氢、卤素、C1-C4烷基、C2-C6烯基或C3-C6炔基、氨基、C1-C6烷基羰基氨基、C1-C6烷氧基羰基氨基或C3-C6环烷基羰基氨基；R9是氢、卤素、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、C2-C6烯基、C3-C6炔基、C3-C6环烷基-C3-C6炔基、卤代苯氧基、卤代苯基、C1-C6卤烷基、C1-C6卤代烷氧基、C2-C6卤代烯基、或C2-C6卤代烯氧基；R10是氢、卤素、C1-C4烷基、C1-C6烷氧基、C2-C6烯基或C3-C6炔基；X是CH2、O或S；n是0、1或2。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
