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CMP设备腔室保湿用喷雾器
- 专利权人:
- 清华大学;天津华海清科机电科技有限公司
- 发明人:
- 贾弘源,董兵超,许振杰,姚宇,尹士龙,崔凯,王同庆,李昆,路新春
- 申请号：
- CN201820203197.2
- 公开号：
- CN208018809U
- 申请日:
- 2018.02.05
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 黄德海
- 摘要：
- 本实用新型公开了一种CMP设备腔室保湿用喷雾器，CMP设备腔室保湿用喷雾器包括：储液罐；喷雾管座，喷雾管座设在储液罐上，喷雾管座上设有进液接头以向储液罐内注入液体；喷雾组件，喷雾组件与喷雾管座相连，喷雾组件包括：喷液吸管，喷液吸管的一端与储液罐连通；二流体喷雾头，二流体喷雾头设在喷液吸管的另一端以将储液罐内的液体雾化喷出。根据本实用新型实施例的CMP设备腔室保湿用喷雾器，通过喷雾组件便于将储液罐中的液体经由喷液吸管再由二流体喷雾头喷出，且二流体喷雾头的位置可以灵活设置，从而满足抛光腔室内部及各个模块表面保湿的需求。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
