The present invention relates to a treating apparatus, a sterilizing apparatus, a sterilizing water and a sterilizing method. The prsing apparatus (10A, 10B) and the sterilizing apparatus (70) are provided with a liquid reservoir (14) having a liquid to be treated (12) and a plasma on the liquid surface (12a) of the liquid to be treated A bubble supply unit (20) for generating a bubble (18) containing the generated plasma on the liquid surface (12a) and supplying the generated plasma into the liquid to be treated (12) . Plasma is generated on the liquid surface (12 a) of the liquid to be treated (12), and bubbles (18) containing the generated plasma are generated and supplied into the liquid to be treated (12).本発明は処理装置、殺菌装置、殺菌水及び殺菌方法に関する。処理装置(10A、10B)及び殺菌装置(70)は、被処理液体(12)を有する液体貯溜部(14)と、前記被処理液体(12)の液面(12a)上でプラズマを発生させるプラズマ発生部(16)と、発生した前記プラズマを内包した気泡(18)を前記液面(12a)上で生成して前記被処理液体(12)中に供給する気泡供給部(20)と、を有する。そして、被処理液体(12)の液面(12a)上でプラズマを発生させ、発生した前記プラズマを内包した気泡(18)を生成して前記被処理液体(12)中に供給する。
