取代的吡唑并嘧啶、其生产方法及其在防治有害真菌中的用途以及包含所述化合物的试剂

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专利权人:

巴斯福股份公司

发明人:

O·瓦格纳,T·格罗特,C·布莱特纳,M·格韦尔,W·格拉门奥斯,A·吉普瑟,B·米勒,J·莱茵海默,P·舍费尔,F·席韦克,A·施沃格勒尔,J·托尔莫艾布拉斯科,A·埃克斯,J·B·斯皮克曼,M·拉克,R·施蒂尔勒,M·舍勒尔,U·舍夫尔,S·施特拉特曼

申请号：

CN200480015691.7

公开号：

CN1829717A

申请日:

2004.05.27

申请国别(地区):

中国

年份:

2006

代理人:

刘金辉`隗永良

摘要：

本发明涉及式(I)的取代吡唑并嘧啶，其中取代基具有如下定义：L为卤素、烷基、卤代烷基、链烯基、烷氧基、氨基、NHR、NR₂、氰基、S(＝O)_nA¹或C(＝O)A²，R为烷基或烷基羰基，A¹为氢、羟基、烷基、烷基氨基或二烷基氨基，n为0、1或2且A²为链烯基、烷氧基、卤代烷氧基或在A¹下所提到的基团之一；m为0或1－5；R¹为烷基、卤代烷基、环烷基、卤代环烷基、链烯基、链二烯基、卤代链烯基、环烯基、炔基、卤代炔基或环炔基，苯基、萘基或含有1－4个选自O、N和S的杂原子的5－10元饱和、部分不饱和或芳族杂环；R²为氢或在R¹下所提到的基团之一；R¹和R²与它们所键合的氮原子一起可以形成可被选自O、N和S的原子间隔的5或6元环，且R¹和/或R²还可以根据说明书被取代。此外，在式(I)中：X为卤素、氰基、OH、烷基、烷氧基或卤代烷氧基；Y为根据说明书的5－10元饱和、部分不饱和或芳族杂环，基团X或根据说明书的其他基团；p为1或2，其中当p＝2时基团Y可以不同，若X根据说明书所述，则p为0。本发明还涉及制备所述化合物的方法和中间产物、包含它们的试剂以及它们在防治植物病原性真菌中的用途。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/