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COMPOSITION CONTAINING MATERIAL FOR REGULATING EXPRESSION OF ABH ANTIGENS
专利权人:
发明人:
申请号:
HK17111076.5
公开号:
HK1236851A
申请日:
2017.10.31
申请国别(地区):
HK
年份:
2018
代理人:
摘要:
The present invention relates to a composition containing a material for regulating the expression of ABH antigens and, more specifically, to a composition capable of: controlling sebum production and alleviating skin trouble by regulating the expression of ABH antigens preventing skin pore enlargement by providing antioxidant effects and defending against skin irritation production.La présente invention concerne une composition contenant une substance permettant de réguler lexpression dantigènes ABH et, plus particulièrement, une composition permettant : de réguler la production de sébum et datténuer des troubles de la peau en régulant lexpression dantigènes ABH de prévenir lélargissement des pores de la peau en conférant des effets antioxydants et de protéger contre la production dune irritation de la peau.본 발명은 ABH 항원의 발현을 조절하는 물질을 포함하는 조성물에 관한 것으 로서, 보다 구체적으로는 ABH 항원의 발현을 조절함으로써 피지의 생성 조절과 함 께 피부 트러블을 개선할 수 있고, 항산화 효과를 제공하여 모공이 넓어지는 것을 예방하며, 또한 피부 자극의 생성을 방어할 수 있는 조성물에 관한 것이다.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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