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PURIFICATION METHOD, PURIFICATION DEVICE AND PURIFICATION SYSTEM
专利权人:
PANASONIC IP MANAGEMENT CORP;パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人:
SAKAGUCHI YOSHIHIRO,坂口 義弘,MIYASHITA MARIKO,宮下 万里子
申请号:
JP2019015622
公开号:
JP2019150564A
申请日:
2019.01.31
申请国别(地区):
JP
年份:
2019
代理人:
摘要:
To efficiently perform purification of a target position.SOLUTION: A purification method comprises: deciding a target position which an injection material to be injected from an injection device reaches (S32); determining whether or not an object comes in contact with the injection material in a period until the injection material reaches the target position from being injected, on the basis of object's positional information obtained by a first sensor (S36); and controlling the injection device to inject the injection material to a range including the target position, on the basis of the determination result (S40 to S46).SELECTED DRAWING: Figure 6【課題】目的位置の浄化を効率良く行う。【解決手段】本開示の一態様に係る浄化方法では、噴射装置から噴射される噴射物を到達させる目的位置を決定し(S32)、第1センサにより得られた物体の位置情報に基づいて、噴射物が噴射装置から噴射されてから目的位置に到達するまでの期間に、噴射物に物体が接触するか否かを判定し(S36)、判定の結果に基づき、噴射装置が目的位置を含む範囲に噴射物を噴射するのを制御する(S40からS46)。【選択図】図6
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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