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X線射出装置
专利权人:
株式会社IHI
发明人:
桑原 一
申请号:
JP2009061564
公开号:
JP5556031B2
申请日:
2009.03.13
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To have hard X rays stably irradiated in a X-ray irradiation device creating the hard X rays by using a reverse Compton scattering phenomenon.SOLUTION: In the X-ray irradiation device, a first light guide section 4 and a second light guide section 5 guide a laser beam L2 for accelerating electrons and a laser beam L3 for collision so as to make changes due to an amount of deviation from a reference incidence condition of a parallel laser beam L1 against a divergence means 2 symmetrical with a symmetrical surface A.COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT【課題】逆コンプトン散乱現象を利用して硬X線を生成するX線射出装置において、安定して硬X線を射出する。【解決手段】第1導光部4及び第2導光部5が、平行レーザ光L1の分岐手段2への基準入射条件からのズレ量に起因する変化が対称面Aに対して対称となるように電子加速用レーザ光L2及び衝突用レーザ光L3を導光する。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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