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Monitoring device to monitor ablation treatment
专利权人:
コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ
发明人:
ハークス エリク アー,デラディ スザボルクス,スアイバー ジャン エフ,ジャンコビック ラディスラブ,シ ヤン エス,レンセン ワウター エイチ ジェイ,バーレイ マヤ イー,ヴァン ダー ヴァート ナイス シー
申请号:
JP2011544959
公开号:
JP2012515013A
申请日:
2010.01.08
申请国别(地区):
JP
年份:
2012
代理人:
摘要:
The present invention relates to a monitoring apparatus (101) for monitoring an ablation procedure. The monitoring apparatus (101) comprises an ultrasound signal providing unit for providing an ultrasound signal that depends on received echo series of an object (4) that is ablated. The monitoring apparatus (101) further comprises an ablation depth determination unit (103) for determining an ablation depth from the provided ultrasound signal. The ablation depth can be determined directly from the ultrasound signal and is an important parameter while performing an ablation procedure. For example, it can be used for determining the progress of ablation within the object (4) and for determining when the ablation has reached a desired progression.本発明は、アブレーション処置を監視するモニタリング装置に関する。モニタリング装置101は、焼灼される対象物の受け取ったエコー系列に依存する超音波信号を与える超音波信号提供ユニットを有している。モニタリング装置101は、与えられた超音波信号から焼灼深度を決定する焼灼深度決定ユニット103を更に有している。焼灼深度は、超音波信号から直接的に決定され、アブレーション処置を行う際の重要なパラメータである。例えば、焼灼深度は、対象物内のアブレーションの進行を決定するため及びアブレーションが所望の進行に達した時を決定するために用いられる。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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