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Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung eines Bestrahlungsplans
专利权人:
Siemens Aktiengesellschaft
发明人:
Johannes Fieres,Oliver Thilmann
申请号:
DE102011005739
公开号:
DE102011005739A1
申请日:
2011.03.17
申请国别(地区):
DE
年份:
2012
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung eines Bestrahlungsplans für eine Bestrahlung eines Bestrahlungsobjekts. In dem Bestrahlungsobjekt sind mehrere Bestrahlungsbereiche festgelegt und das Bestrahlungsobjekt wird mit mehreren Strahlen (1403, 1404) aus unterschiedlichen Richtungen bestrahlt. Bei dem Verfahren werden mehrere Gesamtdosisbedingungen bestimmt. Einem jeweiligen der mehreren Bestrahlungsbereiche wird jeweils mindestens eine der mehreren Gesamtdosisbedingungen zugeordnet. Weiterhin werden mehrere Einzelstrahldosisbedingungen bestimmt und einem jeweiligen der mehreren Strahlen und einem jeweiligen der mehreren Bestrahlungsbereiche jeweils eine der mehreren Einzelstrahldosisbedingungen zugeordnet. In Abhängigkeit von den mehreren Gesamtdosisbedingungen und den mehreren Einzelstrahldosisbedingungen werden Bestrahlungsparameter für die mehreren Strahlen (1403, 1404) bestimmt.the invention relates to a method for the determination of bestrahlungsplans for irradiation of a bestrahlungsobjekts.in the bestrahlungsobjekt several bestrahlungsbereiche is determined and the bestrahlungsobjekt with several beams (1403, 1404) from different directions is irradiated.in the process, several gesamtdosisbedingungen. each of the several bestrahlungsbereiche at at least one of the several gesamtdosisbedingungen).also, several einzelstrahldosisbedingungen and a respective number of rays, and a respective one of the multiple bestrahlungsbereiche several einzelstrahldosisbedingungen).according to the several gesamtdosisbedingungen and several einzelstrahldosisbedingungen irradiation parameters for multiple rays are (1403, 1404).
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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