您的位置: 首页 > 农业专利 > 详情页

СПОСОБ ЛЕЧЕНИЯ РЕЦИДИВИРУЮЩЕГО АФТОЗНОГО СТОМАТИТА
专利权人:
Usmanova Irina Nikolaevna
发明人:
Usmanova Irina Nikolaevna,Усманова Ирина Николаевна,Gerasimova Larisa Pavlovna,Герасимова Лариса Павловна,Kabirova Miljausha Fauzievna,Кабирова Миляуша Фаузиевна,Gerasimova Anna Anatolevna,Герасимова
申请号:
RU2015140094/14
公开号:
RU0002605687C1
申请日:
2015.09.21
申请国别(地区):
RU
年份:
2016
代理人:
摘要:
FIELD: medicine.SUBSTANCE: invention relates to medicine, and namely to therapeutic dentistry and physiotherapy, and can be used for treating oral mucosa in patients, suffering from recurrent aphthous stomatitis. Antiseptic treatment of oral mucosa is made with 0.5 % hydrogen peroxide. 0.25 % solution of sodium deoxyribonucleat is applied on each inflammatory focus in form of applications with exposition for 10 minutes. Laser irradiation is exposed for 2 minutes for each aphtha. Laser radiation source is ALST-01 "OPTODAN". Radiation wavelength is 0.85-0.98 mcm. At first laser irradiation is carried out with laser radiation pulse with power of 2 W and pulse repetition frequency of laser radiation of 80-100 Hz, therapeutic course is 4 procedures. Then laser irradiation with laser radiation pulse power of 0.5 -1 W is performed, laser radiation pulse repetition frequency is 2,000-3,000 Hz, therapeutic course is 2 procedures.EFFECT: method provides reduced length of reduction of inflammation and aphtha epithelization, prolongs remission due to complex action, having immunomodulating, epithelizing and regenerative effect.1 cl, 1 exИзобретение относится к медицине, а именно к терапевтической стоматологии и физиотерапии, и может быть использовано для лечения слизистой оболочки рта у больных, страдающих рецидивирующим афтозным стоматитом. Осуществляют антисептическую обработку слизистой оболочки рта 0,5% раствором перекиси водорода. Наносят на каждый очаг воспаления 0,25% раствор дезоксирибонуклеата натрия в виде аппликации с экспозицией 10 минут. Осуществляют лазерное облучение экспозицией 2 минуты на каждую афту. В качестве источника лазерного излучения используют АЛСТ-01 «ОПТОДАН». Длина волны излучения 0,85-0,98 мкм. Сначала лазерное облучение проводят с мощностью импульса лазерного излучения 2 Вт и частотой повторения импульсов лазерного излучения 80-100 Гц, курсом 4 процедуры. Затем проводят лазерное облучение с мощностью импульса лазерного излучения 0,5-1 Вт, частотой
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

意 见 箱

匿名:登录

个人用户登录

找回密码

第三方账号登录

忘记密码

个人用户注册

必须为有效邮箱
6~16位数字与字母组合
6~16位数字与字母组合
请输入正确的手机号码

信息补充