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一种青霉素G钠表面分子印迹聚合物的制备方法及其应用
- 专利权人:
- 云南省农业科学院质量标准与检测技术研究所
- 发明人:
- 刘宏程,沈报春,杨倩
- 申请号：
- CN201510934634.9
- 公开号：
- CN105384872A
- 申请日:
- 2015.12.15
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 董芙蓉
- 摘要：
- 本发明公开了一种青霉素G钠表面分子印迹聚合物的制备方法，将青霉素G钠溶于一定的溶液，所述一定的溶剂为二甲基亚砜和甲醇体积比为4:1的混合物；然后，加入功能单体搅拌，再加入交联剂、引发剂，氮气除氧，加热反应；反应结束后洗去模板分子青霉素G钠，干燥，即得青霉素G钠表面分子印迹聚合物。本发明与现有技术相比的优点是：本发明的青霉素G钠表面分子印迹聚合物制备过程简单，可操作性强，制备成本低廉，对青霉素钠分子结合速度快、特异性强、结合容量高、吸附平衡时间短。所制备的青霉素G钠分子印迹聚合物对目标样品选择性高，专属性强，模板分子可回收重复使用等优点，可用于检测牛奶中一定范围内的青霉素G钠残留。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
