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Composition for the treatment against Skin Aging
专利权人:
POLICHEM SA
发明人:
FEDERICO MAILLAND,FRANCESCO SCARCI,GIULIANA IOB
申请号:
ARP140102923
公开号:
AR097216A1
申请日:
2014.08.04
申请国别(地区):
AR
年份:
2016
代理人:
摘要:
This is directed to a composition comprising an extract of Humulus lupulus combined with hyaluronic acid and a c u2081 u208b u2084 alkanol, and their use as an anti-aging treatment for the skin of human being. For the use of the present, the composition is administered topically.Claim 1: a composition containing: a) b) extract, Humulus lupulus, Hyaluronic acid or a pharmaceutically acceptable Salt or Ester thereof, c) where c u2081 u208b u2084 alkanol, Hyaluronic acid or a pharmaceutically acceptable Salt or Ester thereof is presented I in w / W concentration from 0.03% to 2.0%, where the c u2081 u208b u2084 alkanol is present in a concentration of W / W from 0.5% to 15%. Claim 2: the composition according to claim 1, wherein Said extract is an extract Liquid, semi liquid or solid. Claim 2: the composition according to claim 3, wherein the amount of said extract is from 0.1 to 15% by weight of the total composition, preferably from 0.1 to 5%. Claim 7: the composition according to claim 1, wherein Said pharmaceutically acceptable Ester is selected hyaluronate ascorbyl hyaluronate Palmitoyl benzyl hyaluronate, hyaluronate Sodium Hyaluronate of butirilo, butirilo / formed ILO.Claim 8: the composition according to claim 1, wherein the c u2081 u208b u2084 alkanol is ethanol.La presente está dirigida a una composición que comprende un extracto de Humulus lupulus combinado con ácido hialurónico y un alcanol C₁₋₄, y a su uso como un tratamiento contra el envejecimiento para la piel del ser humano. Para el uso de la presente, la composición se administra tópicamente. Reivindicación 1: Una composición que contiene: a) un extracto de Humulus lupulus, b) ácido hialurónico o una sal o éster farmacéuticamente aceptable del mismo, c) alcanol C₁₋₄, en donde el ácido hialurónico o una sal o éster farmacéuticamente aceptable del mismo se encuentra presente en concentración w/w desde 0.04% a 2.0%, y en donde el alcanol C₁₋₄ se encuentra presente en una concentración w/w desde 0.5%
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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