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基于介孔二氧化硅双模式荧光/磁共振成像造影剂及制备
- 专利权人:
- 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司
- 发明人:
- 朱君,周涓,路青,何丹农
- 申请号：
- CN201310437506.4
- 公开号：
- CN103845741B
- 申请日:
- 2013.09.24
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2016
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及一种基于介孔二氧化硅双模式荧光/磁共振成像造影剂及其制备方法。将CTAB溶解，加入NaOH；滴加TEOS；搅拌，陈化，洗涤，干燥，煅烧；取产物分散于甲苯溶液中，加入APTES，回流，洗涤，用水分散后得溶液a，在DMSO中加入螯合剂，溶解后分别加入NHS和EDC，搅拌，加入溶液a，加入钆盐，过滤，洗涤，用水分散后得溶液b；另取DMSO，加入含羧基的荧光分子，分别加入NHS和EDC，搅拌，加入溶液b，搅拌，过滤，洗涤，抽干，即获得基于介孔二氧化硅荧光/磁共振双模式造影剂。该双功能造影剂具有粒径小、性能稳定、生物相容性好、荧光和磁共振信号均较强的特点。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
