辐射成像系统
- 专利权人:
- 慧理示先进技术公司
- 发明人:
- 丹尼·拉普·延·李
- 申请号：
- CN201910640324.4
- 公开号：
- CN110721416A
- 申请日:
- 2019.16.07
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了辐射成像系统。一种辐射成像系统包括辐射发射装置和辐射成像装置。所述辐射成像装置具有:带有顶表面和底表面的电绝缘层、在所述电绝缘层的顶表面上的顶电极、电耦接到所述电绝缘层的像素单元的阵列、以及连接到所述像素单元的阵列的晶体管的阵列。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
