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DISPOSITIVO INTEGRAL PARA LA APLICACIÓN DE COMPUESTOS A NIVEL CUTÁNEO
专利权人:
HIOC LABS; SL
发明人:
LOPEZ-OCON BURGOS, Gonzalo,LOPEZ-OCON BURGOS, Gonzalo,HIGUERAS LARA, Alfonso,HIGUERAS LARA, Alfonso
申请号:
ESES2017/070285
公开号:
WO2018/206825A1
申请日:
2017.05.08
申请国别(地区):
WO
年份:
2018
代理人:
摘要:
The invention relates to an integral device for applying compounds to the skin, allowing the administration of a compound, preferably an allergen, in small doses, and the storage of same in the actual device, since it integrates all the elements necessary for applying said allergen to the skin, namely a supporting element, a container element, a piercing element, an obstructing element and a protective element.Dispositivo integral para la aplicación de compuestos a nivel cutáneo, permitiendo la administración del compuesto, preferiblemente un alérgeno, en pequeñas dosis y el almacenamiento del mismo en el propio dispositivo ya que integra todos los elementos necesarios para la aplicación de dicho alérgeno sobre la piel, a saber, un elemento soporte, un elemento contenedor, un elemento punzante, un elemento impedidor y un elemento protector.La présente invention concerne un dispositif monobloc pour lapplication de composés au niveau cutané, qui permet ladministration du composé, de préférence un allergène, à faible dose et la conservation de ce dernier dans le dispositif lui-même du fait quil comprend tous les éléments nécessaires pour lapplication dudit allergène sur la peau, cest-à-dire, un élément support, un élément contenant, un élément de percement, un élément barrière et un élément protecteur.
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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