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頭蓋整形具、頭蓋整形具を備えたシステム、および頭蓋整形具を装着している人の状態を検知する方法
专利权人:
インファ-セーフ、インコーポレイテッド
发明人:
スクラール、フレデリック
申请号:
JP2013508250
公开号:
JP5689169B2
申请日:
2011.04.28
申请国别(地区):
JP
年份:
2015
代理人:
摘要:
A cranial orthosis includes a sensor to monitor one or more conditions of an infant wearing the cranial orthosis. The cranial orthosis is preferably contoured to match the curvature of the fronto-temporal, parietal and occipital areas of an infants cranial vault to provide protection against the acquisition of postural cranial deformities as a result of the infants sleeping in the supine position. The orthosis is designed to be of universal fit, as determined by the infants fronto-occipital head circumference (FOC) measurement. The interior dimensions of the orthosis can be enlarged to accommodate growth of the infants head without requiring replacement. The sensor may detect oxygen saturation, pulse, temperature, or any other measureable condition or combination of conditions. The system includes an alarm that is triggered when a sensed condition crosses a selected threshold level.頭蓋整形具(10)は、頭蓋整形具(10)を装着している幼児の1以上の状態を監視するセンサ(70)を含む。頭蓋整形具(10)は好適には、幼児の頭蓋の蓋部(cranial vault)の前頭側頭、頭頂部、後頭部領域(24、26、28、30)の曲率に適合する輪郭を有し、幼児が仰臥位で寝ることにより生じる位置的な後天性の頭蓋変形が頭部に起こらないよう予防する。整形具(10)は、後頭部から前頭部までの頭囲(FOC)を計測することで、普遍的フィッティングを可能とするよう設計されている。整形具(10)の内部は、幼児の頭部が成長した場合にも、整形具自身を取り替えずに対処が可能な、拡張可能な仕掛けになっている。センサ(70)は、酸素飽和度、脈、温度、またはその他の測定可能な状態または状態の組み合わせを検知することができる。システム(72)は、検知された状態が、選択した閾値レベルを超えるとトリガされるアラーム(112)を含んでいる。【選択図】図16
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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