CHO, IN SHIK,조인식,GOO, HYUNG SEO,구형서,CHI, GYEONG YUP,지경엽,KIM, HAN YOUNG,김한영,HAN, DONG SUNG,한동성,KIM, YU MI,김유미
申请号：
KR1020120111991
公开号：
KR1013734040000B1
申请日:
2012.10.09
申请国别(地区):
KR
年份:
2014
代理人:
摘要：
The present invention relates to a cationic polymer moisturizer in which cationic groups are provided to starch and starch degradation products and a composition comprising the same. More specifically, the present invention relates to a moisturizer which cationic groups are provided to the starch thereby having skin adhesiveness and affinity, an emulsion stabilization function, and having hypoallergenic properties by starch-based polymers, a cosmetic composition for skin miniaturization comprising the same, and a body cleansing composition. [Reference numerals] (AA) Moisture improvement rate； (BB) Moisture improvement rate(%)； (CC) Sample coating time； (DD) Non-coating； (EE) Glycerin본 발명은 양이온성 고분자 보습제 및 이를 포함하는 화장료 조성물에 관한 것으로, 보다 구체적으로 하기 화학식 1, 화학식 2 또는 화학식 3으로 표현되는 고분자를 포함하는 양이온성 고분자 보습제, 이를 포함하는 피부보습 화장료 조성물 및 인체 세정제 조성물을 제공하는 것이다.[화학식 1](상기 식에서, 상기 고분자 화합물의 전분 구조에서 DE (Dextrose equivalent)는 0~30의 범위이며, R은 탄소수 12 내지 18의 직쇄 알킬기이며, X- 는 Cl-, Br- 및 CH3SO4- 중에서 선택된 1종 이상이며, A+B+C는 5 이상의 정수이며, A/(A+B+C)는 0.01~0.4의 범위이며, B/(A+B+C)는 0.01~0.5의 범위이다.)[화학식 2](상기 식에서, 상기 고분자 화합물의 전분 구조에서 DE (Dextrose equivalent)는 0~30의 범위이며, R은 탄소수 12 내지 18의 직쇄 알킬기이며, X-는 Cl-, Br-, 및 CH3SO4- 중에서 선택된 1종 이상이며, A+B 는 5 이상의 정수이며, A/(A+B)는 0.01~0.4의 범위이다.)[화학식 3](상기 식에서, 고분자 화합물의 전분 구조에서 DE (Dextrose equivalent)는 0~30의 범위이며, A+B는 5 이상의 정수이며, A/(A+B)는 0.01~0.5의 범위이다.)
