一种以含氟基团修饰的吡啶环为中心的达比加群酯类似物及其合成方法
- 专利权人:
- 上海应用技术学院
- 发明人:
- 任玉杰,陈海峰,王庆伟
- 申请号：
- CN201310180352.5
- 公开号：
- CN103242296A
- 申请日:
- 2013.05.16
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2013
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开一种以含氟基团修饰的吡啶环为中心的达比加群酯类似物及其合成方法，即以含氟基团的氨基吡啶化合物为起始原料，经过系列反应最终合成本发明的一类含氟基团修饰的达比加群酯类似物。本发明的一种以含氟基团修饰的吡啶环为中心的达比加群酯类似物合成方法具有操作简单，所用试剂价廉易得、合成成本相对较低、合成过程中危险性降低，并且各合成步骤产率较高，合成时间短等优点。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
