PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photocatalyst structure restrained from the formation of scratches.SOLUTION: A photocatalyst structure including a resin base material, a primary coat layer and a photocatalyst layer includes the primary coat layer and the photocatalyst layer in this order on at least one surface of the resin base material, wherein a photocatalyst layer surface has rugged shape with an arithmetic average roughness (Ra) specified by a Japanese Industrial Standard JIS B0601:1994 being 0.6 μm or more, and the photocatalyst layer contains tungsten oxide particles.COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT【課題】擦り傷の発生が抑制された光触媒構造体を提供することである。【解決手段】樹脂基材と、下地層と、光触媒層とを有し、樹脂基材の少なくとも一方の面に下地層、光触媒層をこの順に備えてなる光触媒構造体であって、光触媒層面が日本工業規格JIS B0601:1994に規定される算術平均粗さ(Ra)が0.6μm以上の凹凸形状を有し、光触媒層が酸化タングステン粒子を含むことを特徴とする光触媒構造体。【選択図】なし
