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Reinigungsvorrichtung zum Reinigen und Erwärmen von Schmutzflüssigkeit
专利权人:
SADOUNE; HENRI
发明人:
SADOUNE, HENRI
申请号:
EP13185796.3
公开号:
EP2732828A1
申请日:
2013.09.24
申请国别(地区):
EP
年份:
2014
代理人:
摘要:
Die Erfindung betrifft eine Reinigungsvorrichtung (100) zum Reinigen von Schmutzflüssigkeit (100a), umfassend einen Erhitzungskessel (1) zum Erhitzen der Schmutzflüssigkeit (100a), zumindest ein Einlassventil (2) zum Einfüllen der Schmutzflüssigkeit (100a) in einen Erhitzungsraum (10) des Erhitzungskessels (1), zumindest ein Auslassventil (3) zum Ausleiten der Schmutzflüssigkeit (100a) aus dem Erhitzungskessel (1), zumindest ein Gasüberdruckventil (4) zum Ausleiten von sich im Erhitzungsraum (10) befindlichem Gas, mit zumindest eine Ventilsteuereinheit (5) zum mechanischen Steuern der Ventile (2, 3, 4), wobei das Einlassventil (2), das Auslassventil (3) und das Gasüberdruckventil (4) über die Ventilsteuereinheit (5) mechanisch derart miteinander in Eingriff stehen, dass im Betrieb des Erhitzungskessels (1), während eines Erwärmens der Schmutzflüssigkeit (100a), bis zu einem durch die Ventilsteuereinheit (5) vorgebbaren Grenzgasdruck (200), von zumindest einer Atmosphäre innerhalb des Erhitzungsraums (10), durch die Ventilsteuereinheit (5) das Einlassventil (2) in einer Offen-Stellung (21) und das Auslassventil (3) und das Gasüberdruckventil (4) in jeweils einer Zu-Stellung (31, 41) betreibbar sind, nach Überschreiten des Grenzgasdrucks (200) das Einlassventil (2) durch die Ventilsteuereinheit (5) schließbar und das Auslassventil (3) und/oder das Gasüberdruckventil (4) durch die Ventilsteuereinheit (5) öffenbar ist, und bei einem zeitlich auf das Überschreiten folgenden Unterschreiten des Grenzgasdrucks (200) das Auslassventil (3) und/oder das Gasüberdruckventil (4) durch die Ventilsteuereinheit (5) wieder schließbar und das Einlassventil (2) wieder öffenbar ist.A purification device (100) for heating and purifying dirty liquid, comprises heating vessel (1), inlet valve for feeding liquid into chamber of vessel, outlet valve for discharging liquid from vessel, and gas overpressure valve (200) for discharging gas located in chamber, where valve control unit, inlet val
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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