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IMPLANT, DISPOSITIF DE FIXATION, PILIER, COURONNE D'IMPLANT ET ÉLÉMENT D'ENTRAÎNEMENT POUR IMPLANT
专利权人:
株式会社ナントー;NANTOH. CO., LTD; LTD;NANTOH. CO.
发明人:
ISHIWATA teruo,石渡暉夫
申请号:
JPJP2017/014604
公开号:
WO2017/179518A1
申请日:
2017.04.10
申请国别(地区):
JP
年份:
2017
代理人:
摘要:
An implant (1) is provided with: a fixture (10) which has a central hole (13) and is to be embedded in a bone (H); and an abutment (30) which has a shaft section (32) to be inserted into the central hole (13). The fixture (10) has a first inclined surface (26) which is inclined with respect to a central axis (C) and faces the abutment (30); the abutment (30) has a second inclined surface (33) which is inclined with respect to the central axis (C) and faces the fixture (10); and the first inclined surface (26) and the second inclined surface (33) are brought into contact with each other.La présente invention concerne un implant (1) comportant : un dispositif de fixation (10) qui présente un trou central (13) et qui doit être intégré dans un os (H) ; et une butée (30) qui présente une section d'arbre (32) destinée à être insérée dans le trou central (13). Le dispositif de fixation (10) présente une première surface inclinée (26) qui est inclinée par rapport à un axe central (C) et fait face à la butée (30) ; la butée (30) présente une seconde surface inclinée (33) qui est inclinée par rapport à l'axe central (C) et fait face au dispositif de fixation (10) ; et la première surface inclinée (26) et la seconde surface inclinée (33) sont amenées en contact l'une avec l'autre.インプラント(1)は、中心穴(13)を有し、骨(H)に埋め込まれるフィクスチャー(10)と、中心穴(13)に挿入される軸部(32)を有するアバットメント(30)と、を備える。フィクスチャー(10)は、アバットメント(30)に対向し、中心軸(C)に対して傾斜する第一斜面(26)を有し、アバットメント(30)は、フィクスチャー(10)に対向し、中心軸(C)に対して傾斜する第二斜面(33)を有し、第一斜面(26)と第二斜面(33)を当接させる。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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