BANOWSKI, BERNHARD,BANOWSKI, Bernhard,CLAAS, MARCUS,CLAAS, Marcus
申请号：
DEDE2014/200514
公开号：
WO2015/055197A1
申请日:
2014.09.26
申请国别(地区):
WO
年份:
2015
代理人:
摘要：
Die vorliegende Erfindung betrifft ein schweißhemmendes kosmetisches Mittel, enthaltend a) mindestens ein Stoff, ausgewählt aus der Gruppe von kosmetischen Ölen, welche bei 20 °C und 1.013 hPa flüssig sind, Riechstoffen und Wachsen, b) mindestens ein schweißhemmendes Aluminiumsalz in einer Gesamtmenge von 0,1 bis 80 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des schweißhemmenden kosmetischen Mittels, und c) mindestens eine Verbindung der Formel (PP-I), worin R1 für Wasserstoff oder eine lineare oder verzweigte Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen steht, R2 und R3, jeweils unabhängig voneinander, für eine lineare oder verzweigte Alkylgruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen stehen oder R2 und R3 eine cyclische Gruppe mit 4 bis 8 Kohlenstoffatomen und gegebenenfalls einem Heteroatom, ausgewählt aus der Gruppe von N, O und S, bilden, und X+ für H+, Li+, Na+, K+, NH4+, 1/2 Mg2+, 1/2 Ca2+, 1/2 Mn2+, 1/2 Zn2+, 1/3 Al3+, 1/4 Zr4+ oder mindestens ein schweißhemmendes Aluminiumsalz steht, wobei der Zusatz der mindestens einen Verbindung der Formel (PP-I) in einer effektiven Verschlussbildung der Ausführungsgänge der Schweißdrüse(n) resultiert.The invention relates to an antiperspirant cosmetic agent, containing a) at least one substance, selected form the group of cosmetic oils that are liquid at 20°C and 1.013 hPa, aromatic substances, and waxes, b) at least one antiperspirant aluminum salt in a total amount of 0.1 to 80 wt%, with respect to the total weight of the antiperspirant cosmetic agent, and c) at least one compound of formula (PP-I), wherein R1 stands for hydrogen or a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, R2 and R3 stand, independently of each other, for a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or R2 and R3 form a cyclic group having 4 to 8 carbon atoms and possibly a heteroatom, selected from the group of N, O, and S, and X+ stands for H+, Li+, Na+, K+, NH4+, 1/2 Mg2+, 1/2 Ca2+, 1/2 Mn2+, 1/2 Zn2+, 1/3 Al3+, 1/4 Zr4+, or at lea
