一种人工晶体补偿校正系统及方法

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专利权人:

上海美沃精密仪器股份有限公司

发明人:

尉佩,陈文光

申请号：

CN202011579848.6

公开号：

CN112790895B

申请日:

2020.12.28

申请国别(地区):

CN

年份:

2022

代理人:

摘要：

本发明公开了一种人工晶体补偿校正系统及方法，包含两大模块，像差检测系统和激光雕刻系统；像差检测系统基于Hartmann–Shack波前像差测量系统(HSWS)，实现视网膜成像实时检测。像差检测系统检测处当前安装的晶体下全眼像差后，根据后台计算出的补偿模型，在非球面后表面上加工出微透镜环状序列，微调校正此像差；激光雕刻系统可以提供大NA高精度的激光加工，实现人工晶体的面型精加工。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/