Photoacid-generating compound and associated polymer, photoresist composition, and method of forming a photoresist relief image

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专利权人:

ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC

发明人:

Aqad Emad

申请号：

US201615281292

公开号：

US10088749(B2)

申请日:

2016.09.30

申请国别(地区):

美国

年份:

2018

代理人:

Cantor Colburn LLP

摘要：

A photoacid-generating compound has the structure;

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/