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温水ストレス栽培方法
专利权人:
興和株式会社
发明人:
井上 憲一
申请号:
JP20150140217
公开号:
JP2017018056(A)
申请日:
2015.07.14
申请国别(地区):
日本
年份:
2017
代理人:
摘要:
【課題】本発明は簡便かつ低廉に植物中のポリフェノール含有量を増加させる栽培方法を提供する。【解決手段】ポリフェノール含有量が増加した植物の栽培方法であって、前記植物に温水を噴霧する工程を含むことを特徴とする方法。【選択図】図1
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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