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METHOD OF FORMATION OF A NANOSTRUCTURED BIOCOMPATIBLE COATING ON IMPLANTS FOR REPLACEMENT OF BONE TISSUES
专利权人:
CLOSED STOCK COMPANY "INSTITUTE OF APPLIED NANOTECHNOLOGY"
发明人:
MAUGERI, Umberto Orazio Giuseppe,MESHKOVA, Irina Mihailovna,SOLODOVNIKOV, Vladimir Aleksandrovich,ABRAMYAN, Ara Arshavirovich,ANDREEVA, Elena Romualdovna,BEKLEMYSHEV, Viacheslav Ivanovich,BURAVKOVA, L
申请号:
EPEP2012/054887
公开号:
WO2012/126904A1
申请日:
2012.03.20
申请国别(地区):
WO
年份:
2012
代理人:
摘要:
The invention relates to medicine and medical technology, namely to a method of formation of a biocompatible coating on the surface of implants used in reconstructive surgery for replacement of bone tissues. The disclosed method of formation of a nanostructured biocompatible coating on surfaces of implants consists in deposition of a film of polysilicon on the surface of the implant in a reactor. The obtained film of polysilicon is etched chemically for formation of a nanostructured near-surface layer of porous polysilicon. Etching of the film of polysilicon is carried out by immersion of the implant into a water solution containing a mix of tetrafluoroboric acid, nitric acid and an ammonium salt surfactant, with subsequent washing of the implant with deionized water and drying. Technological applications of the method of formation of a biocompatible coating by obtaining a nanostructured layer of porous polysilicon on surfaces of implants, without dependence from materials used for their manufacturing and from their design features, are extended by the present invention.Linvention a trait au domaine de la la médecine et de la technologie médicale, et concerne un procédé de formation dun enrobage biocompatible nanostructuré sur la surface dimplants utilisés en chirurgie reconstructive pour remplacer des tissus osseux. Le procédé de formation dun enrobage biocompatible nanostructuré sur des surfaces dimplants consiste à déposer un film de silicium polycristallin sur la surface de limplant, dans un réacteur. Le film de silicium polycristallin obtenu est gravé chimiquement en vue de former une couche nanostructurée de silicium polycristallin proche de la surface. La gravure du film de silicium polycristallin est mise en oeuvre par limmersion de limplant dans une solution aqueuse contenant un mélange dacide tétrafluoroborique, dacide nitrique et dun tensioactif de sel dammonium, limplant étant ultérieurement lavé à leau désionisée et séché. Linvention concerne en outre d
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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