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用于不良水溶性的药物和化妆活性成分的过饱和释放赋形剂
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专利权人:
纳诺洛吉卡股份公司
发明人:
周春芳,夏欣,A·E·加西亚-本奈特
申请号:
CN201180051746.X
公开号:
CN103179955A
申请日:
2011.09.14
申请国别(地区):
CN
年份:
2013
代理人:
摘要:
药物或化妆组合物,该组合物包含:大体上不良水溶性的药物活性成分;和纳米多孔叶酸材料,其中所述活性药物成分被掺入颗粒的纳米多孔通道内部。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/
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