用于不良水溶性的药物和化妆活性成分的过饱和释放赋形剂

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专利权人:

纳诺洛吉卡股份公司

发明人:

周春芳,夏欣,A·E·加西亚-本奈特

申请号：

CN201180051746.X

公开号：

CN103179955A

申请日:

2011.09.14

申请国别(地区):

CN

年份:

2013

代理人:

摘要：

药物或化妆组合物，该组合物包含：大体上不良水溶性的药物活性成分；和纳米多孔叶酸材料，其中所述活性药物成分被掺入颗粒的纳米多孔通道内部。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/