口腔处理设备

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专利权人:

发明人:

L·C·格哈特,P·布兰多·西尔瓦,A·R·希尔格斯,M·巴拉格纳,S·Y·舒列波夫

申请号：

CN202180038443.8

公开号：

CN115666443A

申请日:

2021.05.20

申请国别(地区):

CN

年份:

2023

代理人:

摘要：

本发明提供了口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件，其用于限制具有在100kHz到300MHz范围内的频率的电磁场并且适于插入到口腔中，口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件可以与基部单元组合而形成口腔清洁设备的一部分，且包括与口腔处理单元耦合的第一清洁元件。口腔处理单元还包括与口腔处理单元耦合的材料结构，其适于接收初始电磁场并输出经聚焦的电磁场，其中材料结构具有无源电磁场聚焦功能，该功能将所接收的初始电磁场聚焦在材料结构的近场区域中。本发明的另一方面提供了口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件，其用于限制和调制具有在1MHz到300GHz范围内的频率的电磁场并且适于插入到口腔中，口腔处理单元或者多个口腔处理单元的组件可以与基部单元组合而形成口腔清洁设备的一部分且包括与口腔处理单元耦合的第一清洁元件。口腔处理单元还包括电磁场聚焦元件，其适于接收具有初始频率的电磁场并输出经聚焦的电磁场。电磁场聚焦元件包括具有第一无源电磁场聚焦功能的第一材料结构，第一材料结构通过执行以下各项中的一项或多项来将经调制的电磁场限制在距第一材料结构给定距离的位置处：第一材料结构的近场区域中的衰减率控制功能；或者对电磁场的传播方向进行修改的功能。电磁场聚焦元件具有对经限制的电磁场进行调制从而生成经调制的电磁场的调制功能。

来源网站：

中国工程科技知识中心

来源网址：

http://www.ckcest.cn/home/