C-19位修饰的格尔德霉素衍生物及其制备方法
- 专利权人:
- 中国医学科学院医药生物技术研究所
- 发明人:
- 赫卫清,林灵,王以光,倪四阳
- 申请号：
- CN201110328550.2
- 公开号：
- CN102391183A
- 申请日:
- 2011.10.26
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及利用自发反应获得一组C-19位修饰的格尔德霉素衍生物及其制备方法，所述衍生物是采用适当的溶剂如醇类、缓冲液等将GDM与含巯基的化合物在室温避光或有氧及加氧条件下反应所得产物，通过抗肿瘤活性、细胞毒性以及水溶性测试发现，这些化合物都具有一定的抗肿瘤活性，毒性比GDM低，且大部分衍生物的水溶性较GDM提高数倍，显示其有可能开发为临床有应用前景的药物。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
