An apparatus includes multiple first reservoirs and multiple second reservoirs joined with a substrate. Selected ones of the multiple first reservoirs include a reducing agent, and first reservoir surfaces of selected ones of the multiple first reservoirs are proximate to a first substrate surface. Selected ones of the multiple second reservoirs include an oxidizing agent, and second reservoir surfaces of selected ones of the multiple second reservoirs are proximate to the first substrate surface.La présente invention concerne un appareil qui comprend plusieurs premiers réservoirs et plusieurs seconds réservoirs reliés à un substrat. Des premiers réservoirs choisis parmi les multiples premiers réservoirs comprennent un agent réducteur, et des surfaces de premier réservoir des premiers réservoirs choisis parmi les multiples premiers réservoirs sont à proximité d'une première surface de substrat. Des seconds réservoirs choisis parmi les multiples seconds réservoirs comprennent un agent oxydant, et des surfaces de second réservoir des seconds réservoirs choisis parmi les multiples seconds réservoirs sont situées à proximité de la première surface de substrat.
