一种展青霉素清除树脂材料的制备方法
- 专利权人:
- 芜湖市艾德森自动化设备有限公司
- 发明人:
- 汤广顺
- 申请号：
- CN201810467289.6
- 公开号：
- CN108728928A
- 申请日:
- 2018.05.16
- 申请国别(地区):
- 中国
- 年份:
- 2018
- 代理人:
- 汪锋
- 摘要：
- 本发明公开了一种展青霉素清除树脂材料的制备方法，由羟基磷灰石、石墨烯、酚醛树脂、聚乙烯腈、聚氨酯、正硅酸乙酯等原料制成，本发明选择羟基磷灰石和石墨烯对酚醛树脂进行改性处理，提高树脂基体的机械性能和使用寿命，再将其与分子印迹纳米材料结合，利用4‑羟基吲哚作为功能单体，形成与展青霉素分子相匹配的印迹位点，实现展青霉素的专性吸附去除，本发明选择原料均对人体无毒副作用，具有强度高、吸附量大、无二次污染、自清洁的特点，且制备工艺简单，易于操作，适合果汁生产、饲料加工等的规模化使用。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
