含有紫外线吸收剂的防晒用化妆组合物
- 专利权人:
- 株式会社艾迪科
- 发明人:
- 神本哲男,根岸由典
- 申请号：
- CN201080024111.6
- 公开号：
- CN102448433B
- 申请日:
- 2010.08.26
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的防晒用化妆组合物含有由下述通式(1)表示的三嗪系化合物(a)及下述化学式(2)表示的三嗪系化合物(b)组成的紫外线吸收剂。下述通式(1)中，R1表示C1～12直链或支链烷基、C3～8环烷基、C3～8链烯基、C6～18芳基、C7～18烷基芳基或C7～18芳烷基，其中，这些基团可以被羟基、卤素原子或C1～12烷基或烷氧基取代，也可以被氧原子、硫原子、羰基、酯基、酰胺基或亚氨基中断。而且，所述的取代及中断也可以进行组合，R2表示C1～8烷基或C3～8链烯基。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
