It is provided a method for determining ripple filter settings for an ion therapy beam being capable of providing ions of different energy levels to a target volume. The method is performed in a treatment planning system and comprises the steps of: determining at least one beam direction to use to cover a target volume； and assigning a ripple filter setting to each one of a plurality of sub-beams of each one of the at least one beam direction such that each sub-beam is assigned a different ripple filter setting, wherein each ripple filter setting results in a different effect on a Bragg peak width in a direction along the beam, and each energy level is assigned to one of the plurality of sub-beams.L'invention concerne un procédé de détermination de paramètres de filtre d'ondulation pour un faisceau de thérapie ionique susceptible de fournir des ions de différents niveaux d'énergie à un volume cible. Le procédé est mis en œuvre dans un système de planification de traitement et comprend les étapes consistant à : déterminer au moins une direction de faisceau à utiliser pour couvrir un volume cible； et attribuer un paramètre de filtre d'ondulation à chaque sous-faisceau d'une pluralité de sous-faisceaux de chacune de la ou des directions de faisceau de telle sorte que chaque sous-faisceau se voie attribuer un paramètre de filtre d'ondulation différent, chaque paramètre de filtre d'ondulation entraînant un effet différent sur une largeur de pic de Bragg dans une direction le long du faisceau, et chaque niveau d'énergie étant attribué à l'un des faisceaux de la pluralité de sous-faisceaux. L'étape d'attribution d'un paramètre de filtre d'ondulation comprend l'optimisation sur la base de différents paramètres de filtre pour différents sous-faisceaux pour chaque direction de faisceau.
