一类哌嗪修饰的酞菁配合物及其制备方法
- 专利权人:
- 福州大学
- 发明人:
- 刘见永,薛金萍,袁晓
- 申请号：
- CN201410034749.8
- 公开号：
- CN103772397A
- 申请日:
- 2014.01.25
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2014
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明公开了一类哌嗪修饰的酞菁配合物及其制备方法和应用，在金属酞菁大环周边引入哌嗪分子，以增加酞菁的两亲性、生物相容性和靶向性。哌嗪基团中含有两个N原子，当所合成的酞菁配合物进入组织后，如果是正常组织，在光照条件下，哌嗪基团N原子上的孤对电子能淬灭酞菁的单重激发态，从而无单线态氧产生；肿瘤组织中显弱酸性，N被质子化，因而不能淬灭酞菁的单重激发态，这样就能产生单线态氧，杀死肿瘤细胞。基于以上理论，哌嗪基团的引入将能提高酞菁光动力治疗的选择性，减少其对正常组织的损伤。哌嗪修饰酞菁配合物配合物结构单一，不存在异构体，产品容易提纯，成本低，有利于工业化生产。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
