PURPOSE: A self-preserving skin care composition containing organic acid and moisturizing ingredients is provided to ensure high safety to skin and to replace chemical preservation system. CONSTITUTION: A self-preserving skin care composition contains 0.1-2.0 wt% of organic acid and 0.1-2.0 wt% of moisturizing ingredients. The organic acid includes cinnamic acid, p-anisic acid, levulinic acid, sorbic acid, benzoic acid, acetic acid, citric acid, or lactic acid. The moisturizing ingredients includes caprylyl glycol, pentylene glycol, propylene glycol, glycerine, glyceryl caprylate, butylene glycol, 1,2-hexanediol, or methylpropanediol.본 발명은 무보존제 스킨케어 조성물에 관한 것으로, 조성물의 총 중량을 기준으로 유기산 0.1 내지 2.0 중량% 및 보습 원료 0.1 내지 2.0 중량%를 함유하는 본 발명의 자가-보존성 스킨케어 조성물은 기존의 파라벤 등과 같은 화학 보존제를 첨가하지 않아도 유화 타입뿐만 아니라 와시 오프 타입 등의 다양한 유형의 스킨케어 조성물에서 우수한 보존력을 지닐 뿐만 아니라 피부에 대한 안정성이 높아 기존의 화학 보존 시스템의 대체 시스템으로서 유용하게 사용될 수 있다.
