测定装置、测定方法及测定程序
- 专利权人:
- 京瓷株式会社
- 发明人:
- 樋口大辅
- 申请号：
- CN201780043345.7
- 公开号：
- CN109475313A
- 申请日:
- 2017.29.06
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2019
- 代理人:
- 摘要：
- 测定装置具备发光部、受光部和控制部。发光部射出针对部位的照射光。受光部检测与照射光相应的来自部位的散射光。控制部使发光部射出第一强度的第一照射光和比第一强度低的第二强度的第二照射光。控制部基于第一散射光和第二散射光检测规定的信号,第一散射光是受光部根据第一照射光检测的,第二散射光是受光部根据第二照射光检测的。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
