紫外处理装置
- 专利权人:
- 首尔伟傲世有限公司
- 发明人:
- A·杜博尔因斯基,M·舒尔,R·格斯卡
- 申请号：
- CN201911314813.7
- 公开号：
- CN111035859A
- 申请日:
- 2015.28.10
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 公开了一种紫外处理装置,所述紫外处理装置包括:柔性基底,包括位于第一侧上的紫外吸收层和与第一侧相对定位的第二侧;以及紫外辐射系统,结合到柔性基底,其中,紫外辐射系统包括:被构造为穿过第二侧发射紫外辐射的至少一个紫外辐射源、被配置为控制所述至少一个紫外辐射源的操作的控制系统、以及被配置为检测与第二侧邻近定位的表面上的病原体活性的至少一个感测单元,其中,控制系统基于病原体活性控制所述至少一个紫外辐射源的操作。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
