X-ray system configured to provide x-ray exposure to a selected volume (160)； said system comprising (a) a source of X (40) rays； and, (b) at least one focusing lens (10) configured to focus radiation emitted by said source (40), wherein said lens (10) is axially symmetric； said lens (10) comprises lens elements arranged longitudinally Bragg type for X-ray diffraction Bragg said radiation； characterized in that said X-ray source comprises a discharge opening variably that is extensible so that said lens provides an X-ray beam substantially uniform convergent (17) of a waist size (50) controllable comparable with the dimensions of said selected volume (160).Sistema de rayos X configurado para proporcionar exposición a rayos X a un volumen seleccionado (160)； dicho sistema que comprende (a) una fuente de rayos X (40)； y, (b) al menos una lente de enfoque (10) configurada para enfocar la radiación emitida por dicha fuente (40), donde dicha lente (10) es axialmente simétrica； dicha lente (10) comprende elementos de lente de tipo Bragg longitudinalmente dispuestos para la difracción por rayos X de Bragg de dicha radiación； caracterizado por el hecho de que dicha fuente de rayos X comprende una abertura de emisión de forma variable que es extensible de manera que dicha lente proporciona un haz de rayos X convergente sustancialmente uniforme (17) de un tamaño de cintura (50) controlable comparable con las dimensiones de dicho volumen seleccionado (160).
