磁共振成像装置、奈奎斯特重影校正方法以及奈奎斯特重影校正用程序
- 专利权人:
- 株式会社日立制作所
- 发明人:
- 坂口直哉,宫胁升一
- 申请号：
- CN201880058138.3
- 公开号：
- CN111093495A
- 申请日:
- 2018.22.11
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 能够不使用参考图像,高精度地进行奈奎斯特重影的校正。使用诊断中使用的多个图像中的至少一个,在不产生图像折叠的状态下进行了低阶的相位校正后,生成包含残留的高阶的相位误差、相位编码方向的相位误差的2D相位图。作为用于生成2D相位图的图像数据,对于将读出倾斜磁场进行了反转的一对图像用数据进行低阶的相位校正,重组各个奇数行与偶数行来计算读出倾斜磁场的正极/负极误差。在DWI拍摄的情况下,能够将b值=0的图像用于生成2D相位图。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
