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一种用于优化经过引入像差的元件的波的聚焦的方法
专利权人:
超声成像公司;国立科学研究中心
发明人:
M·佩尔诺,M·芬克,M·坦特尔,G·蒙塔尔多,J-F·奥布里,R·辛库斯
申请号:
CN200880005824.0
公开号:
CN101631591B
申请日:
2008.02.20
申请国别(地区):
CN
年份:
2013
代理人:
摘要:
本发明涉及一种用于优化波在介质[4]的关注区[6]中的聚焦的方法,其中该波由多个源[3]组成的网经过引入像差的元件[5]发射到介质[4],该引入像差的元件[5]引起初始的不定相移。根据本发明的方法提出使用所发射波的M-1个连续修正,每次修正引起微扰。根据本发明,在相位和/或振幅分布的每次修正时,测量关注区[6]中的M个微扰,这些测量用于推导出用于最大化在关注区[6]中引起的微扰的最优聚焦特性。
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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