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日焼け止め化粧料
专利权人:
株式会社;資生堂
发明人:
吉田 晋,小口 希,山口 和弘
申请号:
JP2008214463
公开号:
JP5469319B2
申请日:
2008.08.22
申请国别(地区):
JP
年份:
2014
代理人:
摘要:
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sunscreen cosmetic that has high ultraviolet ray-protection ability, excellent sense of use and stability.SOLUTION: The sunscreen cosmetic comprises (A) dimethicodiethylbenzalmalonate, (B) 2,2-methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol] and (C) a both terminal silicone-modified glycerol represented by general formula (a) (wherein R1 is a 1-12C straight-chain or branched-chain alkyl group or a phenyl group R2 is a 2-11C alkylene group m is 10-120 and n is 1-11).COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT【課題】高い紫外線防御能力を有し、かつ使用感及び安定性に優れた日焼け止め化粧料を提供すること。【解決手段】(A)ジメチコジエチルベンザルマロネートと、(B)2,2’-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール]と、(C)下記一般式(a)で表される両末端シリコーン変性グリセリンとを含有することを特徴とする日焼け止め化粧料。(a)式中、R1は炭素数1~12の直鎖又は分岐アルキル基、もしくはフェニル基であり、R2は炭素数2~11のアルキレン基であり、mは10~120、nは1~11である。【選択図】なし
来源网站:
中国工程科技知识中心
来源网址:
http://www.ckcest.cn/home/

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