一种卸妆膏及其制备方法
- 专利权人:
- 成都律恩泽雅科技有限公司
- 发明人:
- 李泽巧
- 申请号：
- CN202010536821.2
- 公开号：
- CN111603414A
- 申请日:
- 2020.06.12
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2020
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明涉及化妆品技术领域，具体而言，涉及一种卸妆膏及其制备方法。本发明的一种卸妆膏，主要由如下重量份数的组分组成：表面活性剂15～45份、成膜剂5～15份、乳化剂24～58份、保湿剂23.7～48份、溶剂20～40份、抗静电剂0.5～2份、角质软化剂0.5～2份、角质调理剂0.5～2份和防腐剂1～4份；所述角质调理剂包括米赫毛霉提取物。本发明的卸妆膏具有乳化充分且用清水极易冲洗干净，明化油快，耐热性良好，卸妆清洁后为肌肤提供成膜保护，智能温和地去除皮肤表面的角质，令肌肤光滑透亮等特点。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
