18F标记化合物的制造方法和该方法中使用的高分子化合物
- 专利权人:
- 国立大学法人东京工业大学;国立大学法人新泻大学
- 发明人:
- 高桥孝志,田中浩士,中田力
- 申请号：
- CN201180008914.7
- 公开号：
- CN102753561A
- 申请日:
- 2011.02.08
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2012
- 代理人:
- 摘要：
- 本发明的目的是解决以往的18F标记化合物的制造方法的问题、即、在液相合成法中化合物纯化的问题和固相合成法中由反应性降低导致的收量不足的问题，为此提供了一种18F标记化合物的制造方法，其特征在于，使分子中含有标记前体化合物的残基和相转移催化剂的残基的高分子化合物与18F-反应，再从高分子化合物切出被18F标记的化合物。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
