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用于光学跟踪的易于制造的可高压灭菌LED
- 专利权人:
- 史密夫和内修有限公司;史密夫和内修整形外科股份公司;新加坡施乐辉亚太有限公司
- 发明人:
- 盖坦·马蒂,莫里斯·哈尔格,O·吉拉德,M·兰伯特,M·马托萨巴特
- 申请号：
- CN202180047147.4
- 公开号：
- CN115802973A
- 申请日:
- 2021.07.08
- 申请国别(地区):
- CN
- 年份:
- 2023
- 代理人:
- 摘要：
- 提供了一种光学跟踪系统。所述光学跟踪系统包括可高压灭菌基准标记组件，所述可高压灭菌基准标记组件包括不透明壳体、光源、被构造成折射来自光源的穿过其中的光线的窗面板、以及在所述窗面板与所述不透明壳体的相接部处形成气密密封的金属化涂层。所述基准标记组件被构造成屏蔽所述窗面板的周边边缘以免受所述光线的影响。所述系统还包括跟踪装置，所述跟踪装置包括被配置成检测由所述光源发射的光线的位置的至少两个光学传感器。所述系统还包括处理器，所述处理器被配置成从所述光学传感器接收所述光线的位置，基于所计算的折射偏差移动每个光线的位置，以及基于每个光线的移动位置对所述光源的定位进行三角测量。
- 来源网站：
- 中国工程科技知识中心
- 来源网址：
- http://www.ckcest.cn/home/
