summary of the invention patent for: "method of removing polymerized coatings for human nails, polymerized coating for human nails with improved removability and two-pack system". a method of removing a radiation-cured cosmetic coating from the nails, which comprises applying a solvent system comprising a hydroxyl-containing solvent and a hydroxyl-free solvent to a polymerized nail coating. a two-pack system comprising a first pack containing a polymerizable nail coating composition comprising an (met) acrylic oligomer, (met) acrylic monomer, or a mixture of an (met) acrylic oligomer and an (met) acrylic monomer, and a photoinitiator, in which the oligomer or monomer has an acid or basic ionizable group, and a second package containing a solvent system to remove the polymerizable nail coating composition after it has been applied to a nail and cured by radiation, wherein the solvent system comprises a hydroxyl-containing solvent and a hydroxyl-free solvent. a radiation curable coating composition for human nails is also disclosed.resumo da patente de invenção para: “método de remoção de revestimentos polimerizados para unhas humanas, revestimento polimerizado para unhas humanas com uma removibilidade melhorada e sistema de duas embalagens”. método para remover das unhas um revestimento cosmético polimerizado por radiação, que compreende a aplicação de um sistema solvente compreendendo um solvente contendo hidróxilo e um solvente sem hidróxilo em um revestimento de unhas polimerizado. um sistema de duas embalagens que compreende uma primeira embalagem contendo uma composição de revestimento de unhas polimerizável compreendendo um oligômero (met)acrílico, monômero (met)acrílico, ou uma mistura de um oligômero (met)acrílico e um monômero (met)acrílico, e um fotoiniciador, em que o oligômero ou monômero possuem um grupo ionizável ácido ou básico, e uma segunda embalagem contendo um sistema de solvente para remover a composição de revestimento polimerizável para unhas de
